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聚四氟乙烯薄膜_聚四氟乙烯薄膜及其制備方法和應(yīng)用技術(shù)

2022-06-07 15:00:36 rzkj 26

      聚四氟乙烯薄膜及其制備方法和應(yīng)用技術(shù),具有高光透過和疏水功能。類聚合物薄膜的發(fā)展可以追溯到20世紀60年代末,該類薄膜可用于低摩擦涂層、介電膜和光學涂層等領(lǐng)域。其中,氟碳聚合物作為一種重要的高分子材料,具有優(yōu)異的耐腐蝕性、低介電性、自潤滑性、低表面能及優(yōu)異的化學穩(wěn)定性、不粘、疏水等特點。聚四氟乙烯是一種含有碳和氟的高分子材料,具有較高的機械強度、熱和化學穩(wěn)定性以及優(yōu)異的絕緣性能。由于其具有上述優(yōu)點,聚四氟乙烯薄膜被廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域,如:建筑窗的防污染涂層、疏水面料等。但是,由于聚四氟乙烯薄膜具有良好的化學穩(wěn)定性,使其不溶于任何溶劑和其他材料的附著力較差,通常用于制備薄膜的方法,如旋轉(zhuǎn)噴涂法,很難應(yīng)用于制備聚四氟乙烯薄膜。為此,研究人員開始了大量的工作來解決這個問題。目前,已經(jīng)發(fā)展了許多用于制備聚四氟乙烯薄膜的CVD和PVD技術(shù),如磁控濺射、激光燒蝕、離子束和PECVD,是目前合成這種薄膜常用的方法。其中,磁控濺射技術(shù)具有低溫沉積、附著力好、沉積率高、化學成分可調(diào)等諸多優(yōu)點。早在1852年,英國W.Grove就在放電中觀察到從陰及上飛濺出來的物質(zhì)就被污染在管壁上。自1870年以來,人們一直在使用這種現(xiàn)象來制備薄膜。飛濺技術(shù)被稱為高速、低溫飛濺技術(shù),廣泛應(yīng)用于電力、機械行業(yè),其工藝簡單,節(jié)省時間,環(huán)境友好,薄膜結(jié)構(gòu)對大多數(shù)基礎(chǔ)附著力都是一致的。磁控飛濺法是在20世紀70年代,在射頻飛濺的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種飛濺涂層法。在射頻飛濺裝置的基礎(chǔ)上,電及結(jié)構(gòu)得到了改 善,通常是在靶的陰及上。



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